石材拋光效果取決于兩個(gè)方面：一是所采用的拋光技術(shù)即“后天”人為的外因;二是石材本身存在“先天”的內(nèi)因。

如果不考慮石材本身所具有的內(nèi)因，單就拋光工藝而言，影響石材拋光的幾個(gè)主要因素是拋光劑的類型，拋光液(膏)，拋光磨具和拋光工藝參數(shù)。

(1)拋光劑的類型

拋光劑雖然是一種特殊的磨光材料，但它與磨削材料的區(qū)別主要是表現(xiàn)在加工機(jī)理上。原則上說(shuō)，有一些低硬度的微粉材料也可做拋光劑使用。但通常高硬度的拋光劑比低硬度的好，且適用范圍也廣。金剛石拋光粉，對(duì)絕大多數(shù)石材的拋光，都能取得較為滿意的拋光效果。

(2)拋光液(膏)

水是常用的拋光液。它既可起磨削冷卻的作用，又可作為拋光過程中物理作用和化學(xué)作用的介質(zhì)。

若石材的拋光是以機(jī)械磨削作用為主，如金剛石微粉，拋光液一般用油類有機(jī)液體效果較好，如縫紉機(jī)油。其冷卻、潤(rùn)滑和分散作用極好。

(3)拋光盤(具、磨塊)

規(guī)格平整的石材光面板，是石材平面磨削的一種表達(dá)加工的表現(xiàn)形式，多采用含有金屬材料制成的硬盤作拋光盤。軟盤拋光的拋光面，在石材受壓時(shí)易屈服成一凹面，適用于弧面型拋光。中硬盤的耐磨性，吸附性較好，并具有一定的彈性，對(duì)平面型石材拋光的效果也比較好。

(4)拋光工藝參數(shù)

工藝參數(shù)有拋光劑的濃度和供給量，拋光時(shí)的壓力和線速度等。在小于某一濃度值之前，拋光速度隨拋光劑濃度的增加而增加，濃度值達(dá)最大之后，若再增加濃度，拋光速度反而降低。同樣，拋光劑的供給量在一定值時(shí)，拋光速度最大，之后若繼續(xù)增加供給量，拋光速度反而降低。適當(dāng)增加拋光時(shí)的壓力，可以增加拋光速度，但壓力過大，磨削作用加強(qiáng)，不利于光澤面的形成。拋光速度取決于拋光盤(具)的轉(zhuǎn)速，但線速度過大，拋光劑將會(huì)被甩出，造成浪費(fèi)。

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